簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "氧".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="閘極氧化層"


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    以氬氧混合氣體感應耦合電漿低溫輔助氧化4H碳化矽的製程探討
    • 化學工程系 /110/ 碩士
    • 研究生: 劉怡忻 指導教授: 洪儒生
    • 點閱:145下載:0
    • 全文公開日期 2025/08/29 (校內網路)
    • 全文公開日期 2027/08/29 (校外網路)
    • 全文公開日期 2027/08/29 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    射頻磁控濺鍍法製備閘極氧化層之鈦-鋁-銦-氧薄膜研究
    • 材料科學與工程系 /97/ 碩士
    • 研究生: 林子超 指導教授: 郭東昊
    • 本研究使用金屬鈦(Ti)、金屬鋁(Al)與氧化銦(In2O3)粉末組成三種不同配方之靶材,利用射頻磁控濺鍍法於p型矽基板上製備鈦鋁銦氧(TAIO)薄膜,並在氮氣氛下以快速退火(500°C~800°C…
    • 點閱:199下載:7

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    快速熱退火對多通道複晶矽薄膜電晶體特性改善之研究
    • 電子工程系 /95/ 碩士
    • 研究生: 楊雁行 指導教授: 范慶麟
    • 本論文中分為兩個部份,第一個部份我們利用本實驗室自行架設的中空陰極化學氣相沉積(Hollow Cathode Chemical Vapor Deposition)系統,在低溫下沉積薄膜,找出最佳製程…
    • 點閱:329下載:1
    • 全文公開日期 2010/07/27 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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